化學機械拋光(ChemicalMechanicalPolishing，CMP)技術(shù)是提供全局平坦化的表面精加工技術(shù)，其中拋光液是CMP技術(shù)中的關(guān)鍵因素。隨著我國藍寶石襯底片產(chǎn)量的增大，
氧化鋁拋光液在藍寶石拋光中的應用顯得更為重要，拋光液能一次完成藍寶石、碳化硅晶片的研磨和拋光，大大提高拋光效率。
氧化鋁拋光液是一種新的工藝，α-氧化鋁(剛玉)的硬度高，穩(wěn)定性好，納米級的氧化鋁適用于光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等的精密拋光，應用相當廣泛。拋光液主要由磨料、溶劑和添加劑組成，其種類、性質(zhì)、粒徑大小、顆粒分散度及穩(wěn)定性等與最終拋光效果密切相關(guān)。拋光液的優(yōu)點是拋光速率高，材料去除速率高，選擇性、分散性好，機械磨損性能較好，化學性質(zhì)活潑，并且后清洗過程處理較容易。
使用氧化鋁拋光液的時候應該先將拋光液澆注到拋光布表面進行拋光。由于氧化鋁比較容易沉淀，使用時需要搖勻才開始使用效果更佳。拋光液產(chǎn)品特點：
1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。
2.分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。
3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。
4.分散性好、乳液均一，能在一定程度上提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。
